近日，中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所石芝銘、黎大兵團(tuán)隊(duì)聯(lián)合寧波東方理工大學(xué)魏蘇淮教授團(tuán)隊(duì)，在寬禁帶氮化物載流子動(dòng)力學(xué)研究方面取得重要進(jìn)展，提出通過界面缺陷工程加速電子冷卻的新策略，有效解決了長(zhǎng)期困擾氮化物紫外發(fā)光二極管(LED)效率的載流子不對(duì)稱注入問題。
 

　　AlGaN基紫外LED作為新一代節(jié)能環(huán)保紫外光源是光固化技術(shù)、高密度光存儲(chǔ)、非視距通訊等領(lǐng)域的核心器件。在污水處理、公共場(chǎng)所消殺、工業(yè)制造業(yè)等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。其效率瓶頸在于電子與空穴冷卻速率的不對(duì)稱性：電子能量弛豫過程顯著慢于空穴，導(dǎo)致輻射復(fù)合效率低下。傳統(tǒng)方案常通過引入電子阻擋層(EBL)以提升電子注入效率，但存在設(shè)計(jì)復(fù)雜、額外勢(shì)壘和材料不兼容等問題。
 

　　本研究首次提出通過調(diào)控GaN/AlN量子阱界面的氮空位缺陷，實(shí)現(xiàn)對(duì)電子冷卻速率的有效增強(qiáng)。這些缺陷能級(jí)不但作為“臺(tái)階”提升了導(dǎo)帶連續(xù)性，而且能夠顯著加強(qiáng)電子-聲子相互作用，從而加速電子向?qū)У桌鋮s。第一性原理計(jì)算表明，該策略可使電子冷卻時(shí)間縮短超過一個(gè)數(shù)量級(jí)，有效實(shí)現(xiàn)與空穴冷卻速率的動(dòng)態(tài)平衡，大幅提升發(fā)光效率。與傳統(tǒng)EBL結(jié)構(gòu)相比，該方法無需額外結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，即可實(shí)現(xiàn)電子動(dòng)力學(xué)的精準(zhǔn)調(diào)控。該研究還進(jìn)一步拓展了半導(dǎo)體缺陷物理的研究邊界，系統(tǒng)驗(yàn)證了缺陷在調(diào)控器件性能方面的“有益性”作用，顛覆了缺陷的傳統(tǒng)認(rèn)知，為新一代電子與光電子器件的缺陷工程設(shè)計(jì)提供了理論支撐和新思路。
 

　　上述成果深化了對(duì)寬禁帶氮化物中載流子動(dòng)力學(xué)與缺陷相互作用機(jī)制的理解，對(duì)提升紫外LED注入效率、實(shí)現(xiàn)高性能光電器件具有重要意義。相關(guān)研究成果已發(fā)表于《物理評(píng)論快報(bào)》(Phys. Rev. Lett.,135,026402,2025)上。
 

研究利用第一性原理計(jì)算揭示了界面缺陷促進(jìn)電子冷卻的物理機(jī)制